半导体工业**纯水设备_离子交换设备

半导体行业**纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术，搭配高效的自动化控制系统，有效的**了设备的稳定性，而且较大程度的节约了人力成本和维护成本，水资源的利用率得到了有效的提高，设备运行过程的可靠性高，操作简单易懂。这款设备相较于其它同类型产品，具有更高的性价比，是值得选择的半导体行业**纯水设备。
制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→*二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)
设备特点：
设备可接入国家自来水标准的水为源水，并增加石英砂过滤器、活性炭过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等四级预处理，另有RO反渗透主机系统和EDI离子交换技术，有效的延长了设备的使用寿命，降低了人工的操作复杂度和维护工作量等。系统水箱处设有液位控制系统、水泵处设有压力保护装置并配备在线水质监测控制仪器，让设备的自动化得到较大的提高。设备的选材方面，公司可按照客户对于水质的要求进行特殊定制，既能保证用水水质达标，同时降低了所需成本。
适用领域：
1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
2.电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
3.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
4.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
5.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
6.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
7.集成电路生产中高纯水清洗硅片
8.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
9.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
10.高品质显像管、萤光粉生产
11.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
12.**纯材料和**纯化学试剂、**纯化工材料

水质用水标准：符合美国ASTM纯水水质标准、电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准