单晶硅edi**纯水设备_水处理纯水设备

单硅晶体**纯水设备主要作用是用于*表面污染杂质，包括**物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。**污染包括光刻胶、**溶剂残留物、**污染包括光刻胶、**溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属铬、铜、铁、金等，严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等，引起严重漏电;颗粒污染源则包括**胶体纤维、微生物、细菌、尘埃、硅渣等物质，这类物质都会在生产过程中造成不同程度的危害，所以现在的半导体器件生产、太阳能电池硅片、多晶硅、单晶硅的生产过程中都需要使用**纯水进行冲洗，保证整体过程受到的危害降到小。
渗源纯水企业生产的单硅晶体**纯水设备采用的是国内先进的科技，并搭配使用国际进口零部件，加上公司*到的管理经验理念，生产出满足于单硅晶体行业应用的高质量**纯水设备。
工艺流程：
原水箱→原水提升泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透→级间水箱→二级高压泵→中间水箱→EDI提升泵→微孔过滤器→EDI系统→EDI水箱→抛光混床→用水点（≥18.2MΩ.CM）
设备性能：
1.预处理系统是采用目前技术的装置，它的净水效果显着。可以去除水中的的细菌、泥沙、胶体、悬浮物、异味等杂质。如果水中的硬度较高时，则还会降低水中的硬度。
2.反渗透技术主要由高压泵、膜克、还有进口反渗透膜的组件、仪表、控制电气等组成。使其水中的电导率下降，电阻率提升。
3.后处理部分是对反渗透制取的纯水做更进一步的深化处理。使其出水的电阻率可以到18.2兆欧，从而使生产出来的水达到的晶片清洗标准。
4.**纯水设备的脱盐核心部件为进口的反渗透膜组件，**纯水设备一般都是有预处理装置、反渗透技术、后处理由抛光混床、EDI系统部分共同组成，使其净水的效果显着。
经过这几部分处理之后的水能够满足于单晶硅清洗用**纯水用水要求，部分生产企业要求水中不能含有微生物、真菌等，所以会在后面加装紫外灯杀菌装置来确保水质达到生产所需。